Exynos 990中藏有三星真正的7LPP工艺
2020-08-24 10:14
半导体百科
关注
去年,三星宣布在其Exynos 9825中使用的7LPP工艺中引入了EUV。通过对芯片的分析,我们发现他们在9825中的所谓7LPP工艺与在Exynos 9820中的8LPP工艺之间几乎没有区别。
现在,我们很高兴地说,我们在其旗舰产品Galaxy S20中的Exynos 990中发现了三星真正的7LPP工艺。如我们所料,这款7纳米EUV工艺是迄今观察到的三星密度最高的。
凭借27nm的fin节距,这一突破性创新使NMOS和PMOS晶体管的3fin/3fin版图可保持268nm的较小标准单元高度,同时拥有高驱动电流。
与台积电的7nm 3/3 7.5T 300nm标准单元高度和 2/2 6T 240nm标准单元高度相比,EUV光刻实现的密度确实更高。
英特尔的10纳米制程具有相近的272nm标准单元高度,但是采用了2/3 的fin数比例。除了节距微缩外,三星还以令人惊讶的实现方式推出了SDB,该SDB缩短了所需的晶体管隔离距离,最初宣布SDB会在其6LPP工艺平台中进行部署。
声明:
本文由入驻维科号的作者撰写,观点仅代表作者本人,不代表OFweek立场。如有侵权或其他问题,请联系举报。
最新活动更多
-
1月8日火热报名中>> Allegro助力汽车电气化和底盘解决方案优化在线研讨会
-
即日-1.14火热报名中>> OFweek2025中国智造CIO在线峰会
-
即日-1.20限时下载>>> 爱德克(IDEC)设备及工业现场安全解决方案
-
限时免费下载立即下载 >>> 2024“机器人+”行业应用创新发展蓝皮书
-
7月30-31日报名参会>>> 全数会2025中国激光产业高质量发展峰会
-
即日-2025.8.1立即下载>> 《2024智能制造产业高端化、智能化、绿色化发展蓝皮书》
发表评论
请输入评论内容...
请输入评论/评论长度6~500个字
暂无评论
暂无评论