光刻胶
光刻胶（Photoresist），别称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。它是由感光树脂、增感剂和溶剂组成的对光敏感的混合液体。在光刻工艺过程中，用作抗腐蚀涂层材料。半导体材料在表面加工时，若采用适当的有选择性的光查看详情>刻胶，可在表面上得到所需的图像。
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国产光刻机的前世今生：从“造不如买”到艰难的国产自研
在芯片制造过程中，光刻机是不可或缺的设备，其作用主要是利用光源和工艺来精确复制预定的电路图案至硅片上。可以说，光刻机的先进程度直接决定了芯片的制程水平和性能水平。此前业内一直有消息称，上海微电子的 28 nm 浸没式光刻机将在2023年底面世，但上海微电子方面并未对此作出正面回应
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国产光刻机往事：难，真的是难……
突破和改变正在发生。文 ｜ 华商韬略 李慕白国人普遍对光刻机唉声叹气之时，全球光刻机龙头ASML首席执行官彼得·温宁克却曾表示：“如果不将光刻机卖给中国，五年之内，他们必将掌握所有的EUV光刻技术，十
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美国限制ASML给中国出售光刻机？实是美国有私心，ASML也需要中国
前段时间传出美国要求ASML不要将成熟的DUV光刻机出售给中国，此举其实是美国自己有私心，希望继续独占中国芯片市场获取更多利润，对于ASML来说不对中国销售光刻机也是难以接受的。一、中国芯片市场的重要
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关于美国要求扩大对华光刻机的禁售范围，阿斯麦的近忧与远虑
为了遏制中国的发展，美国近年来对华采取一系列的干预和打压措施已经屡见不鲜，在高新科技领域的技术封锁／贸易封锁更是美国的惯用伎俩，半导体就是这样的一个领域。据近日报道，美国为了全面遏制中国的半导体业发展
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华为公布第二项量子专利，国产芯片摆脱ASML光刻机或很快变成现实
国家知识产权局正式公示了华为第二项量子专利，这意味着华为的量子技术再进一步，这已是它获得授权的第二项量子专利，国内还有其他芯片企业都陆续公布了量子专利，代表着中国在量子技术上已具有一定基础。业界都清楚
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ASML有意大举向中国出售光刻机，或是意在遏制中国光刻机产业
近期全球最大的光刻机企业ASML忽然向中国芯片释放善意，表示将在中国市场增加一成多的员工，为中国芯片企业提供更优质的服务，光刻机的供应也将更充足，此举一方面让我们受宠若惊，但是另一方面却也让业界人士思
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ASML大举向中国出口光刻机，或在于忧虑中国光刻机技术取得突破
在一季度大举向中国出口23台光刻机之后，ASML近期再度向中国芯片释放善意，表示要在中国招募200名员工，为中国客户提供更周到的服务，ASML此举或许在于它忧虑中国的光刻机技术在快速升级，即将打破它的垄断
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ASML终于向现实低头，光刻机需求下滑，只能靠中国市场了
全球最大的光刻机企业ASML近期表示将进一步增强为中国客户提供周到服务的能力，在中国增聘200多名员工，以获得中国客户的支持，柏铭科技认为这是它预见到接下来的日子不好过，可能得依赖中国客户的支持而改变了态度
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美国芯片也不愿用昂贵的先进工艺，ASML光刻机高光时刻正在过去
据悉当下发展势头正猛的美国芯片企业AMD的新一代Zen4架构芯片将采用台积电的5nm工艺生产，不会争夺更先进的3nm工艺，为了提升性能将以chiplet封装技术将它自家的CPU和GPU封装在一起，提升芯片性能
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国产光刻机巨头，才发运先进光刻机，就被美列入“未经核实清单”
今日，众多媒体报道称，在美国当地时间2月7日，美国商务部工业与安全局（BIS）发表声明，宣布将33个总部在中国的实体列入“未经核实清单（Unverified List，UVL）”。这33家企业主要包括
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突破芯片“卡脖子”，国产光刻胶已经迈出第一步
2019年，日本、韩国因历史遗留问题爆发了争端。为了争取更多谈判筹码，日本向韩国半导体产业“痛下杀手”。当年7月，日本方面宣布限制向韩国出口包括含氟聚酰亚胺、光刻胶以及高纯度氟化氢在内的三项重要半导体及OLED面板原材料
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中国光刻机获得重大突破，富士康大规模采用国产光刻机
富士康投资的青岛新核芯科技首座晶圆级封测厂正式投产，其中引入上海微电子的46台28nm光刻机，这是中国大陆生产的光刻机获得的最大笔订单，代表着中国大陆的光刻机取得了巨大的成绩。富士康对芯片业务非常重视
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一文带你看半导体光刻胶国产化之路“难”在何处？
中国光刻胶行业主要上市公司：飞凯材料（300398）、容大感光（300576）、广信材料（300537）、上海新阳（300236）、永太科技（002326）、雅克科技（002409）、江化微（603078）等
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EUV光刻机困住高端芯片 复旦教授点明国产芯片新方向
无论是信息化时代到来, 芯片在电子产品中的重要性日趋凸显;还是华为因为高端芯片供不应求,导致手机业务受阻,都让国内芯片厂商看到了芯片国产化替代的重要性。为了实现芯片的国产化自研,中芯国际、紫光展锐等国产芯片厂商投入大量的研究资本以及人力寻求突破
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ASML最新EUV光刻机曝光：精细到1nm
全世界能生产EUV光刻机的厂商就一家,那就是荷兰的ASML。为何只有ASML能够生产EUV光刻机?原因在于ASML绑定了好多的巨头,且是独家合作的,比如蔡司、比如德国TRUMPF公司,这些巨头在极紫外线制造技术,收集技术上达到极致,无可取代
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光刻与键合：国产光刻机水平正在突破
文︱立厷图︱网络近日,“国产光刻机取得关键性进展,ASML始料未及”的报道,由于没有过多细节,振奋还是为时过早。如果国产光刻机能达到国际水平,国内科技水平的提升将是突飞猛进的,相关行业会得到快速发展,产品造价成本会降低很多
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胶黏剂如何更好助推磁性元件与电源发展
【哔哥哔特导读】杰果新材深耕胶黏剂行业领域，现有产品种类丰富，可适用于磁性元件与电源领域。据了解，广东杰果新材料有限公司（以下简称“杰果新材”）是一家集有机硅、环氧树脂、PU（聚氨酯）研发生产为一体的综合性化工企业
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ASML宣布在台湾建海外培训中心 旨在辅导台积电EUV光刻制造集群
ASML近日宣布，将在台湾的南部科学园区建立自己在海外（荷兰之外）的首个培训中心，旨在就近辅导台积电所领导EUV光刻制造集群。
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2020年中国光刻机产业发展现状和竞争分析
光刻机又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。光刻机是半导体产业中最关键设备，光刻工艺决定了半导体线路的线宽，同时也决定了芯片的性能和功耗。
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最牛风投合肥“优选”，芯碁微装能否造出芯片光刻机？
看似赚钱的芯碁微装并没有经营现金流入，其三年间不断加大研发投入：2017年研发支出还不足一千万元，到了2019年就已经接近三千万元。芯碁微装大手笔投入研发成果如何？资本持续加码背后，芯碁微装究竟有何过人之处？
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随形注胶及钳工式工装夹具该如何设计?
今天与大家分享两种随行夹具的设计理念，和老铁们一起探讨针对异形零件的随行工装夹具如何提高效率，并使工件在随夹上的定位夹紧变得更为可靠。
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汉思化学芯片底部填充胶，助力中国智造“上天”
阳春三月，武大樱花如期盛开，却少了树下赏花人。不过，疫情困住了人们的脚步，却挡不住赏春的心。为了不负春光，武大开启“云赏樱”模式。跟随着无人机的镜头，人们隔着屏幕，即使在千里之外，照样能赴一场樱花雨之约，享受“樱花七日风吹雪”的惬意
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