刻蚀
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制造离不开刻蚀工艺,中微公司竞争优势成国内第一
如今,芯片行业已经成为景气度非常高的行业之一。一方面是芯片成为日常生活中离不开的技术产品,在大多数现代化设备中都需要用到;另一方面是因为国际局势的冲突加剧让芯片成为竞争的焦点,是横亘在我们迈入富强道路上必须突破的关卡
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中微发布新一代电感耦合等离子体刻蚀设备Primo Twin-Star®
中微半导体在SEMICON China 2021期间正式发布了新一代电感耦合等离子体(ICP)刻蚀设备Primo Twin-Star®,用于IC器件前道和后道制程导电/电介质膜的刻蚀应用。
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泛林集团推出革命性的新刻蚀技术,推动下一代3D存储器件的制造
通过技术和Equipment Intelligence(设备智能)的创新,Vantex重新定义了高深宽比刻蚀,助力芯片制造商推进3D NAND和DRAM的技术路线图。
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